二维光学掩模下的原子微绘制
摘要：用二维光学掩模首次在亚稳氦原子光刻过程中创建纳米尺度图案。原子的内部能量用于局部损伤亲水性抗蚀层，并在湿法腐蚀过程中将其去除。实验使用了几种不同偏振方式的光学掩模，得到了不同的强度图案和相应的纳米尺度结构。线性偏振光场的结果显示出直径为260纳米的孔阵列，与计算得到的图案一致。而圆偏振光场观察到了一种间距为766纳米的线状图案。考虑到许多可能的实验缺陷的模拟无法解释这种图案。
作者：S.J.H. Petra, K.A.H. van Leeuwen, L. Feenstra, W. Hogervorst, and W. Vassen
论文ID：physics/0402127
分类：Atomic Physics
分类简称：physics.atom-ph
提交时间：2007-05-23