高功率驻波光场中使用亚稳态氦原子的纳米制图技术
摘要：氦原子纳米光刻技术：通过使用亚稳态三重态氦原子摧毁位于基板上的疏水性光刻胶层，我们在金基板中创建了周期纳米尺度结构。亚稳态氦原子束通过被横向冷却并引导通过一个强烈的驻波光场进行光刻。与常用的低功率光掩模相比，高功率光场（饱和参数为10E7）极大地增强了氦原子在驻波中的束缚效果，并使实验设置的对准要求降低。由于亚稳态氦原子的高内部能量（20电子伏），只需要每个光刻胶分子接受一个原子的剂量。仅仅经过8分钟的曝光时间，就可以创建间距为542纳米、宽度为100纳米的平行线（光掩模所用的波长的1/11）。
作者：S.J.H. Petra, L. Feenstra, W. Hogervorst, W. Vassen
论文ID：physics/0308076
分类：Atomic Physics
分类简称：physics.atom-ph
提交时间：2007-05-23