高电流离子注入器的束流动力学研究
摘要：高亮度、高电流质子和轻离子束的生成是最近离子源发展的结果。在萃取和传输后，具有大空间电荷力的束流必须被捕获、提升并预加速，以注入到新一代高强度束流设施的驱动部分中，用于中子源、能源生产和废物转化等。RFQ和DTL的组合被认为是这样一个高电流离子注入器的好解决方案。通过多体模拟，已经对一些初步的束流动力学布局进行了研究。以国际聚变材料辐照设施(IFMIF)方案作为例子，基本参数如频率、离子能量和火花放电等进行了变化。主要关注高透射率、低损失和发射度保持。还简要讨论了与RFQ之间的束流匹配以及RFQ和DTL之间的匹配。
作者：A. Sauer, H. Deitinghoff, H. Klein (Institut fuer Angewandte Physik (IAP) Universitaet Frankfurt am Main)
论文ID：physics/0008105
分类：Accelerator Physics
分类简称：physics.acc-ph
提交时间：2007-05-23