微加工结构下的原子干涉
摘要：原子射流穿过一个或两个微纳加工结构（MS）后形成的原子密度剖面被考虑。考虑了大和小角度发散的束流的两种极限情况。基于菲涅尔-基尔霍夫衍射理论和原子反冲效应建立了等效性。计算了由于原子塔尔波效应在共线束流中产生的高阶光栅剖面。对于具有大角度发散的原子射流，分析了原子从MS散射的经典和量子两种情况。对于从两个MS进行经典散射，原子密度周期调制由于阴影效应而在回声点聚焦。回声效应的简化几何解释被深入研究。对于具有两个周期有理比的MS引起的的解相-相位过程进行了完全分类。计算了高阶光栅的位置和剖面。包括由量子散射引起的光栅变形。在这种情况下，对应于原子塔尔波-劳效应，对于两个场之间的距离等于塔尔波距离的1 / n部分，由阴影效应引起的光栅压缩n倍。
作者：B. Dubetsky and P. R. Berman
论文ID：physics/0005078
分类：Atomic Physics
分类简称：physics.atom-ph
提交时间：2007-05-23