散射介质中偏振光的背向散射-方位强度变化分析及其对扩散辐射源位置的影响
摘要：偏振光在浊介质散射时表现出的回散射强度的方位变化是我们研究的对象。我们在广泛的光密度范围内对胶体悬浊液中的这种强度变化进行了实验观察。对于由球形散射体组成的介质，我们使用Mie散射理论和光子传输的蒙特卡洛模拟，发展了一个模型，用于计算回散射强度的恒定强度等值线。计算和实验得到的等值线的比较结果表明非常好的一致性。据我们所知，这是第一个能够与实验数据进行量化比较的模型。在我们进行强度测量的确切回散射方向附近，我们表明这些模式是由我们称之为“反射蛇光子”形成的。这些光子在回散射一次后，一直保持其传播方向，直至离开介质。我们还发现，这些反射蛇光子源自入射光束入射点附近约$4l^{*}$的深度，其中$l^{*}$为光子传输平均自由程。此外，我们还以一种新颖的方法，将这些模式用作探测扩散近似假设的工具，并提出了有关介质内扩散辐射表观源位置的新结果。同时也讨论了可能的应用。
作者：Venkatesh Gopal, Hema Ramachandran and A. K. Sood
论文ID：cond-mat/9906227
分类：Disordered Systems and Neural Networks
分类简称：cond-mat.dis-nn
提交时间：2007-05-23