在配对装配过程中保持Nb3Sn涂层腔体的高品质因子和加速梯度
摘要：两个CEBAF 5细胞加速器腔室用Nb3Sn薄膜进行了汽化扩散技术涂覆。一个腔室在Jefferson Lab的Nb3Sn腔室涂层系统中涂覆，另一个在Fermilab的Nb3Sn涂层系统中涂覆。两个腔室在每个实验室中在垂直的露点测试中分别在4K和2K进行了测量，然后在Jefferson Lab组装成一对腔室。之前尝试将Nb3Sn腔室组装成腔室对会降低Nb3Sn涂层腔室的超导性能。本文讨论了识别和减轻腔室对组装挑战的努力，并将展示组装前后的垂直测试结果。值得注意的是，其中一个腔室在腔室对组装后的垂直测试中达到了80 mT以上的最高梯度。
作者：G. Eremeev (1), U. Pudasaini (2), S. Cheban (1), J. Fischer (2), D. Forehand (2), S. Posen (1), A. Reilly (2), R. Rimmer (2), B. Tennis (1) ((1) Fermilab, (2) Thomas Jefferson National Accelerator Facility)
论文ID：2307.10268
分类：Accelerator Physics
分类简称：physics.acc-ph
提交时间：2023-07-21