FLUKA模拟对靶厚度依赖性的Cu-K$eta$/K$alpha$强度比例
摘要：用单能Am-241辐射诱导的铜Cu-Kα和Cu-Kη荧光线的数值蒙特卡洛模拟已被提出。模拟包括对不同厚度铜的Kη/Kα强度比进行建模。使用FLUKA代码得到的结果与已有的实验和理论值进行了比较。观察到模拟的Kη/Kα强度比与样品厚度之间存在明显的关系：随着样品厚度的增加，Kη/Kα比也增加，直到达到饱和。
作者：Aneta Maria G''ojska, Karol Kozio{l}, Ewelina Agnieszka Mi''sta-Jakubowska, Adam Wasilewski, Krystian Trela
论文ID：2307.05172
分类：Atomic Physics
分类简称：physics.atom-ph
提交时间：2023-07-12