基于AlN的CMOS兼容压电MEMS器件的制备和表征

摘要:高质量AlN薄膜的制备及其用于压电MEMS中的研究

作者:Shubham Jadhav, Rudra Pratap

论文ID:2307.03366

分类:Applied Physics

分类简称:physics.app-ph

提交时间:2023-07-10

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