超导射频应用中金相抛光的最新进展
摘要：金相抛光研发项目概述：针对1.3 GHz椭圆腔镀膜的备选制备途径，本论文总结了铌和铜基底的金相抛光研发计划。所展示的研究是IJCLab、CEA/Irfu、HZB和KEK之间合作努力的成果，旨在开发创新的表面处理和腔体制备方案，以满足超导射频表面的严格要求，包括降低安全风险和生态足迹，提高可靠性和表面粗糙度，并有可能降低成本。研究结果将予以公开。
作者：O. Hryhorenko and C. Z. Antoine and T. Proslier and F. Eozenou and T. Dohmae and S. Keckert and O. Kugeler and J. Knobloch and D.Longuevergne
论文ID：2307.03272
分类：Accelerator Physics
分类简称：physics.acc-ph
提交时间：2023-07-13