TRIUMF上的BCPed同轴腔中温热处理
摘要：250至400°C的中温处理已被证明可提供高质量因子，并且在高频、电解抛光椭圆形腔体在2K下工作时，随着射频场强度的增加而增加，类似于掺氮腔体。质量因子的增加归因于表面电阻$R\_{BCS}$中温度相关部分的减少。迄今为止，关于这种新处理方法在四分之一波长谐振腔（QWR）和半波长谐振腔（HWR）上的结果还没有报告。TRIUMF多模同轴腔体是专门的测试腔体，可以在不改变环境的情况下进行频率和温度分辨的性能特性测试，因此是测试这些新处理方法的理想测试工具，其射频频率范围为200至1200 MHz。本文报道了QWR和HWR腔体的性能测量结果，并与四种不同处理方法进行了比较：基准处理、48小时的传统120°C低温烤烧以及3小时的300°C和400°C中温烘烤。此外，还展示了使用SEM、EDX和SIMS对见证样品进行的样品分析。结果发现，中温烘烤方法不能直接应用于低频腔体。在两个测试腔体的基本模式中，未观察到与基准处理相比的性能增益，也未观察到随射频幅度增加而降低的温度相关部分。在1GHz以上的频率和低温下，中温烘烤显示出较基准处理和120°C处理具有更低的$R\_{BCS}$场依赖性。
作者：Philipp Kolb, Zhongyuan Yao, Arthur Blackburn, RuthAnn Gregory, Daniel Hedji, Mattias McMullin, Tobias Junginger, Robert Edward Laxdal
论文ID：2306.12588
分类：Accelerator Physics
分类简称：physics.acc-ph
提交时间：2023-06-27