等离子体过程对氮化物材料的蚀刻和生长的影响

摘要:高度选择性Si3N4/SiO2刻蚀过程中关键试剂的确定及研究

作者:Yuri Barsukov

论文ID:2306.04789

分类:Chemical Physics

分类简称:physics.chem-ph

提交时间:2023-06-09

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