CMS中的跟踪器对齐与像素本地重建的相互作用
摘要：CMS硅跟踪系统以微米级的像素探测器和数十微米级的条带探测器测量带电粒子的轨迹。轨迹重建的一个最重要输入是精确知道跟踪器几何的精度。因此，需要精确确定每个跟踪器传感器的位置、方向和曲率。不同的工作条件变化可以导致不同子结构以及传感器的运动。为保持目标精度，需要频繁进行校正，这个过程通常被称为跟踪器对准。由于数据采集期间累积的辐射，传感器的响应会随时间变化。这会影响像素击中的局部重建，进而影响对齐过程的结果。本文介绍了CMS中的对准过程以及像素局部重建的专门校准。讨论了传感器老化导致的局部重建变化对对准过程的影响。
作者：Ana Ventura Barroso (on behalf of the CMS Collaboration)
论文ID：2303.16642
分类：Instrumentation and Detectors
分类简称：physics.ins-det
提交时间：2023-03-30