多晶Hf0.5Zr0.5O2基MFIM中电场依赖性和动态极化变化的相场模拟
摘要：设备对设备间的永久极化差异初探: 基于Hafnium-Zirconium-Oxide的金属铁电绝缘金属(MFIM)堆叠
作者：Revanth Koduru, Imtiaz Ahmed, Atanu K Saha, Xiao Lyu, Peide Ye, and Sumeet K. Gupta
论文ID：2303.15625
分类：Computational Physics
分类简称：physics.comp-ph
提交时间：2023-03-29