韩国CMS小组为CMS二期升级大规模生产大尺寸GEM箔的技术
摘要：大规模制造CMS相位2升级所需的大尺寸GEM薄膜的技术研究：韩国CMS小组通过采用双掩膜技术设计了用于大规模生产的薄膜生产设施。报道了使用单乙醇胺的聚酰亚胺湿法蚀刻技术，与乙二胺相比，由于其吸入毒性较低，提供了更安全的工作环境。研究还涵盖了蚀刻液随时间变性的情况和再调谐的过程。最后，讨论了使用热风焊接表面贴装电阻器以加快生产的研发结果。
作者：I. Yoon (on behalf of CMS Muon Group)
论文ID：2303.15302
分类：Instrumentation and Detectors
分类简称：physics.ins-det
提交时间：2023-06-21