TJ-Monopix2 DMAPS在180纳米CMOS技术中的电荷收集和效率测量
摘要：单片式CMOS像素探测器已成为高能粒子物理探测器领域竞争对手。通过利用商业流程，它们可以实现大规模生产此类探测器。在180纳米Tower工艺中设计了一系列原型，其中传感器材料耗尽和列漏读出结构。最新的版本TJ-Monopix2采用了一个大的2厘米x 2厘米矩阵，由512 x 512个像素组成，间距为33.04微米。小型集电极设计旨在降低功耗和噪声，而高能粒子探测器应用的辐射容忍度需要额外关注。为了达到$10^{15},1,$MeV n$\_ ext{eq},$cm$^{-2}$的NIEL损伤辐射容忍度的目标，实施了对传统流程的修改，通过在像素上添加低剂量n型硅注入，以便实现传感器体积的均匀耗尽。最近对未受辐照的模块进行了实验室测试和束流测试，以研究电特性和命中探测效率。
作者：Christian Bespin, Ivan Caicedo, Jochen Dingfelder, Tomasz Hemperek, Toko Hirono, Fabian H"ugging, Hans Kr"uger, Konstantinos Moustakas, Heinz Pernegger, Petra Riedler, Lars Schall, Walter Snoeys, Norbert Wermes
论文ID：2301.13638
分类：Instrumentation and Detectors
分类简称：physics.ins-det
提交时间：2023-04-20