铷离子束诱导的铂沉积
摘要：聚焦离子束诱导沉积（FIBID）铂的特性化工作使用了铷离子和镓离子。在相似的束能下（铷离子为8.5 keV，镓离子为8.0 keV），以及接近10 pA的束电流下，两种离子物种都以相似的速率沉积铂薄膜。能量色散X射线光谱表明铷离子FIBID-铂的铂含量与镓离子相比略低（铷离子含有5%的铷和27%的镓）。所沉积的材料的电阻率也分别为Rb$^+$ FIBID-铂的$8.1\times 10^4$ $\mu\Omega\cdot$ cm和Ga$^+$ FIBID-铂的$5.7\times 10^3$ $\mu\Omega\cdot$ cm。
作者：Yang Li (1), Sheng Xu (1), Meltem Sezen (2), Feray Bakan Misirlioglu (2), Edgar Vredenbregt (1) ((1) Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, (2) Sabanci University Nanotechnology Research and Application Center)
论文ID：2212.02194
分类：Applied Physics
分类简称：physics.app-ph
提交时间：2023-07-05