提高色差塔尔波立体印刷的分辨率和吞吐量
摘要：超大面积的高分辨率周期结构图案制作在科学和技术上有多种应用。一种基于已知的Talbot衍射光栅效应的技术是色无差异Talbot光刻（ATL）。与其他技术相比，这种方法具有高分辨率，大焦深，高吞吐量等优点。尽管该技术在过去已经被研究过，但尚未探索其限制。提高该方法的效率和分辨率是必要的，可能使其在科学和技术中有更多应用。在这项工作中，我们将这个技术与极紫外（EUV）波长的空间相干和准单色光结合起来，并探索新的掩模设计方案，以提高其吞吐量和分辨率。我们通过模拟各种掩模设计，探索它们的效率。为了获得高质量和高效率的ATL掩模，必须使用先进和优化的纳米加工技术。利用瑞士光源（SLS）提供的相干EUV辐射进行曝光，将该技术在密集孔洞或点阵图案制作中的分辨率极限推向40纳米的间距。此外，通过广泛的模拟，还探索了具有环形结构而不是孔洞的替代掩模设计，以实现高效的孔洞/点阵图案制作。我们展示了这些环形结构与孔阵列具有相似的光学图像，同时可以提高效率和吞吐量。环形结构掩模设计显示它们在纳米制造过程中不易出现图案坍塌等问题，因此有望实现更高的分辨率。
作者：Dimitrios Kazazis, Li-Ting Tseng, and Yasin Ekinci
论文ID：1810.05406
分类：Applied Physics
分类简称：physics.app-ph
提交时间：2023-05-03