PDMS的选择性腐蚀：将腐蚀作为负形光阻
摘要：应用无添加剂固化的PDMS作为负调制光阻材料，首次展示了PDMS微结构的制备方法，并测试了所制备微结构的溶剂耐性。PDMS层的厚度分别为45um和100um，使用不同照射剂量的质子微束进行辐照。辐照后，样品经过硫酸脱除未辐照的PDMS，但保留了接受足够高剂量的结构。还确定了未辐照PDMS的蚀刻速率。那些接受了至少7.5×10^15个离子厘米-2剂量的结构经过19小时的蚀刻后仍未出现任何降解迹象。以示范，制备了45um和100um高、高宽比良好、无变形的微结构，并具有平滑且垂直的侧壁。制备的微结构浸泡在多种溶剂和一些酸中进行了耐性测试。发现未辐照的PDMS不具有耐氯仿、正己烷、甲苯和硫酸的能力，而辐照PDMS微结构则具有耐受这些溶剂的能力。氢氟酸可腐蚀未辐照和辐照的PDMS。
作者：S.Z. Szilasi, L. Juhasz
论文ID：1712.03119
分类：Applied Physics
分类简称：physics.app-ph
提交时间：2018-05-09