比较DC溅射技术在不同基底上沉积的Bi2O3和NiO超薄膜的光学性质，用于透明电子学。
摘要：透明氧化铋和镍薄膜在玻璃和聚对苯二甲酸乙二酯（PET）衬底上通过直流溅射技术在室温300K下生长。使用X射线衍射（XRD）分析和扫描电子显微镜（SEM）分析了Bi2O3和NiO膜的结构。利用轮廓仪测量了超薄膜的厚度。使用新的非晶分散模型，在200nm至2200nm范围内，以1nm的增量进行了光谱椭圆偏振测量，得到了这些值。此外，利用双光束紫外-可见-近红外分光光度计和光谱椭圆偏振仪研究了这些薄膜的光学常数，并在相同波长范围内进行了比较，得到了良好的一致性。根据膜的光透射率谱，测量了不同基底上沉积的每种样品在可见光区域的高透射率。此外，确定并比较了膜的吸收系数和四种光学跃迁类型（准许直接跃迁、禁止直接跃迁、准许间接跃迁、禁止间接跃迁）的光学能隙的两种不同技术。最后，分析和比较了Bi2O3和NiO超薄膜的结构和形貌的性质。
作者：M. Rasheed, R. Barille
论文ID：1710.04815
分类：Applied Physics
分类简称：physics.app-ph
提交时间：2017-10-16