共形映射在典型反孔结构中磁矩分布确定中的应用
摘要：包含六边形或正方形对称性的磁性薄膜阵列受到了越来越多的技术关注。其中一部分关注点与可能在阵列边界处形成和锚定磁畴有关。在本文中，我们开发了一种计算这种阵列磁矩分布的方法，重点集中在每个阵列内逆止区域的附近。对于每个阵列分布（正方形或六边形），我们定义了合适的坐标系，以利用整体纳米结构的单元格形状。统治磁矩分布的Landau-Lifshitz-Gilbert-Brown方程以这些坐标来重新编写。对于这些新的坐标系统定义的笛卡尔网格中的每个位置，计算得到了平衡磁矩方向，并且随后应用了一种共形变换将磁矩矢量插入实际的单元格中。得到的矢量图清晰地显示了阵列周围不同磁矩方向的区域，这些区域可以与纳米级磁畴相关联。这些结果与其他作者使用NIST oommf方法得到的结果[1-4]类似。
作者：Osvaldo F. Schilling
论文ID：0812.0566
分类：Computational Physics
分类简称：physics.comp-ph
提交时间：2009-11-13