二步蚀刻法制备硅纳米孔
摘要：一种使用传统湿法腐蚀技术来制造硅纳米孔的成本有效方法是在这项研究中开发的。所提出的方法的主要概念是一个两步腐蚀过程，包括一个先进的双面湿法腐蚀和一个接下来的轨道腐蚀。设计了一个特殊的夹具来保持预腐蚀的硅片，以便可以有效地进行轨道腐蚀。采用电化学系统来检测并记录预先腐蚀的空腔被腐蚀成通过纳米孔时的离子扩散电流。实验结果表明，所提出的方法可以经济有效地制造硅纳米孔。
作者：G.-J. Wang, W.-Z. Chen, K.J. Chang
论文ID：0802.3087
分类：Other Computer Science
分类简称：cs.OH
提交时间：2008-02-22