工业生产GEM薄膜的跟踪探测器研究
摘要：星际实验室计划进行升级，包括使用大面积GEM追踪仪器来确定W+(-)衰变产生的电子和正电子的电荷符号。在这样一个大规模的项目中，商业可获得的GEM膜是必需的。我们报道了使用由Tech-Etch公司（位于美国马萨诸塞州普利茅斯市）生产的GEM薄膜的三重GEM探测器的初步结果。通过与使用由CERN生产的GEM薄膜的相同探测器获得的结果进行比较，我们测量了增益均匀性、长期稳定性以及X射线的能量分辨率。建立了基于自动化高分辨率扫描仪的光学测试的质量保证程序，允许研究探测器的观察行为与GEM薄膜的几何特性之间的相关性。基于Tech-Etch和CERN制造的薄膜的探测器都显示出活动区域增益的良好均匀性以及在初始充电周期后的稳定增益，在精密追踪应用中表现出良好的适用性。
作者：F. Simon, B. Azmoun, U. Becker, L. Burns, D. Crary, K. Kearney, G. Keeler, R. Majka, K. Paton, G. Saini, N. Smirnov, B. Surrow, C. Woody
论文ID：0707.2543
分类：Instrumentation and Detectors
分类简称：physics.ins-det
提交时间：2008-11-26